ArF光刻膠國產化再進一步。

5月31日晚，南大光電(300346.SZ)發布公告稱，公司自主研發的ArF光刻膠產品再次通過客戶認證。

ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，對國內半導體自主研發及國產化意義重大。

南大光電由南京大學孫祥禎教授創辦，近年來，公司加快產業轉型，奔跑在助力半導體產業國產化突破的路上。

“ArF光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家“02專項”的一個重點攻關項目，于2017年開始研發，至今已有4年多。

2020年12月17日晚，南大光電曾公告稱，公司自主研發的ArF光刻膠產品成功通過客戶的使用認證。認證評估報告顯示，本次認證選擇客戶50nm閃存產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。

當時，南大光電表示，本次產品認證的通過，標志著“ArF光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠。

這一次，南大光電的光刻膠產品認證系選擇客戶55nm技術節點邏輯芯片產品的工藝進行驗證，測試良率結果符合要求，表明其具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。

相較去年12月的產品通過認證，本次選擇的是55nm技術節點邏輯芯片。

南大光電稱，公司自主研發的ArF光刻膠產品去年12月在一家存儲芯片制造企業的50nm閃存平臺上通過認證后，這一次是在邏輯芯片制造企業55nm技術節點的產品上取得認證突破。

ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝。廣泛應用于高端芯片制造(如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云計算芯片等)。

業內普遍認為，ArF光刻膠的市場前景好于預期。隨著國內IC行業的快速發展，自主創新和國產化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。

光電稱，ArF光刻膠產品與本次認證通過的客戶之間的產品銷售與服務協議尚在協商中，ArF光刻膠的復雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，決定著ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。

今年5月11日，南大光電董事長馮劍松在2020年度業績說明會上介紹，自主研發的ArF光刻膠產品拿到了國產光刻膠首個訂單，已經實現小批量銷售。公司ArF光刻膠產品開發和產業化項目已完成25噸光刻膠生產線建設。

6月1日早盤，受利好消息刺激，南大光電股價大漲12.6%，收報35.47元/股，市值增長16.16億元。

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